二(èr)氧化(huà)矽抛光(guāng)液是(shì)以(yǐ)高(gāo)純度(dù)矽粉为(wèi)原料，經(jīng)特(tè)殊工藝生(shēng)産的(de)一种高(gāo)純度(dù)低(dī)金(jīn)屬離子型抛光(guāng)産品。二(èr)氧化(huà)矽抛光(guāng)液廣泛用(yòng)于多(duō)种材料納米(mǐ)級的(de)高(gāo)平坦化(huà)抛光(guāng)。如(rú)：矽片(piàn)、化(huà)合物(wù)晶體(tǐ)、精密光(guāng)學(xué)器件(jiàn)、寶(bǎo)石(dàn)等的(de)抛光(guāng)加工。
根(gēn)據(jù)不(bù)同(tóng)的(de)抛光(guāng)要(yào)求可(kě)分(fēn)为(wèi)不(bù)同(tóng)粒(lì)度(dù)（10~150nm）的(de)産品。根(gēn)據(jù)pH值的(de)不(bù)同(tóng)可(kě)分(fēn)为(wèi)酸(suān)性抛光(guāng)液和(hé)堿性抛光(guāng)液。
二(èr)氧化(huà)矽抛光(guāng)液應(yìng)用(yòng)领域
1、光(guāng)通(tòng)訊领域，配合公(gōng)司專门为(wèi)光(guāng)纖連(lián)接器開(kāi)發(fà)的(de)抛光(guāng)産品，能达(dá)到(dào)超精细(xì)抛光(guāng)效果(guǒ)，抛光(guāng)後(hòu)連(lián)接器端面(miàn)沒(méi)有劃(huà)傷和(hé)缺陷，3D指标(biāo)和(hé)反(fǎn)射衰減指标(biāo)达(dá)到(dào)國(guó)際标(biāo)準。
2、硬盤基片(piàn)的(de)抛光(guāng)，SiO2磨料呈球形，具有粒(lì)度(dù)均勻、分(fēn)散(sàn)性好(hǎo)、平坦化(huà)效率高(gāo)等優點(diǎn)。
3、矽晶圆(yuán)、藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)等半導體(tǐ)及(jí)襯底材料的(de)粗(cū)抛和(hé)精抛，具有抛光(guāng)速率高(gāo)，抛光(guāng)後(hòu)易清(qīng)洗，表面(miàn)粗(cū)糙度(dù)低(dī)，能夠得到(dào)總(zǒng)厚偏差（TTV）极(jí)小的(de)質(zhì)量(liàng)表面(miàn)。
4、其(qí)他(tā)领域的(de)應(yìng)用(yòng)，如(rú)不(bù)鏽鋼(gāng)、光(guāng)學(xué)玻璃等领域，抛光(guāng)後(hòu)能达(dá)到(dào)良好(hǎo)的(de)抛光(guāng)效果(guǒ)
