藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)抛光(guāng)液是(shì)以(yǐ)高(gāo)純度(dù)矽粉为(wèi)原料，經(jīng)特(tè)殊工藝制備成的(de)一种低(dī)金(jīn)屬離子CMP抛光(guāng)液，是(shì)一种高(gāo)純度(dù)的(de)氧化(huà)矽抛光(guāng)液，廣泛應(yìng)用(yòng)于多(duō)种材料的(de)納米(mǐ)級高(gāo)平坦化(huà)抛光(guāng)，是(shì)Wafer減薄抛光(guāng)液抛光(guāng)漿料slurry。
傑盛达(dá)生(shēng)産的(de)藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)抛光(guāng)液主(zhǔ)要(yào)用(yòng)于藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)襯底研磨減薄，藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)A向抛光(guāng)液，藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)C向抛光(guāng)液等。抛光(guāng)範圍如(rú)：矽片(piàn)、鍺片(piàn)、化(huà)合物(wù)晶體(tǐ)磷化(huà)铟、砷化(huà)镓、精密光(guāng)學(xué)器件(jiàn)、寶(bǎo)石(dàn)飾品、金(jīn)屬鏡(jìng)面(miàn)等研磨抛光(guāng)加工。
藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)抛光(guāng)液Sapphire Slurry的(de)特(tè)點(diǎn)：
1.高(gāo)純度(dù)（Cu含量(liàng)小于50 ppb），有效減少(shǎo)对(duì)電(diàn)子類(lèi)産品的(de)污染。
2.高(gāo)抛光(guāng)速率，利用(yòng)大(dà)粒(lì)徑的(de)胶(jiāo)體(tǐ)二(èr)氧化(huà)矽粒(lì)子达(dá)到(dào)高(gāo)速抛光(guāng)的(de)目的(de)。
3.高(gāo)平坦度(dù)加工，藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)CMP抛光(guāng)液是(shì)利用(yòng)SiO2的(de)胶(jiāo)體(tǐ)粒(lì)子進(jìn)行抛光(guāng)，不(bù)会(huì)对(duì)加工件(jiàn)造成物(wù)理(lǐ)損傷，达(dá)到(dào)高(gāo)平坦化(huà)加工。
藍(lán)寶(bǎo)石(dàn)抛光(guāng)液根(gēn)據(jù)pH值的(de)不(bù)同(tóng)可(kě)分(fēn)为(wèi)酸(suān)
