①温(wēn)度(dù)：温(wēn)度(dù)升(shēng)高(gāo)，加強(qiáng)了(le)抛光(guāng)液化(huà)學(xué)反(fǎn)應(yìng)能力，抛光(guāng)速率增加。但过(guò)高(gāo)的(de)温(wēn)度(dù)会(huì)引起(qǐ)抛光(guāng)液的(de)揮發(fà)，以(yǐ)及(jí)加快化(huà)學(xué)反(fǎn)應(yìng)，表面(miàn)腐蝕嚴重(zhòng)，因(yīn)而(ér)会(huì)産生(shēng)不(bù)均勻的(de)抛光(guāng)效果(guǒ)，使抛光(guāng)質(zhì)量(liàng)下(xià)降。
②pH值：抛光(guāng)液的(de)pH值越高(gāo)，堿性越強(qiáng)，反(fǎn)應(yìng)速率越快。但pH值对(duì)被(bèi)抛表面(miàn)刻蝕、磨料的(de)分(fēn)解(jiě)與(yǔ)溶解(jiě)度(dù)、抛光(guāng)液的(de)穩定(dìng)性有很大(dà)的(de)影響， 從而(ér)影響材料的(de)去(qù)除率和(hé)表面(miàn)質(zhì)量(liàng)， 因(yīn)此(cǐ)應(yìng)嚴格控制。
③壓力：一般地(dì)，壓力越大(dà)，抛光(guāng)速率越快。但是(shì)壓力足夠大(dà)时，抛光(guāng)速率会(huì)略微下(xià)降，原因(yīn)是(shì)壓力大(dà)，抛光(guāng)垫承载(zài)抛光(guāng)液能力下(xià)降。另(lìng)外(wài)，壓力大(dà)易形成破片(piàn)現(xiàn)象(xiàng)。
④轉(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)速增加，会(huì)引起(qǐ)抛光(guāng)速率增加。但轉(zhuǎn)速过(guò)高(gāo)又会(huì)使抛光(guāng)液在(zài)抛光(guāng)垫上(shàng)分(fēn)布(bù)不(bù)均勻，影響抛光(guāng)質(zhì)量(liàng)。
⑤抛光(guāng)液濃度(dù)：抛光(guāng)液的(de)濃度(dù)增加时，去(qù)除率也(yě)随之(zhī)增加，但當磨粒(lì)濃度(dù)超过(guò)某一值时，材料去(qù)除率将停止增加，維持(chí)一个(gè)常數值，这(zhè)种現(xiàn)象(xiàng)称为(wèi)去(qù)除饱和(hé)。而(ér)且(qiě)过(guò)高(gāo)的(de)濃度(dù)，有可(kě)能造成表面(miàn)缺陷(劃(huà)痕)增加，影響表面(miàn)質(zhì)量(liàng)。
